2月4日消息，国家知识产权局信息显示，中国计量大学、兴三星云科技股份有限公司申请一项名为“一种基于双功能颗粒的高耐磨Co-W复合镀层电解液及其配制方法和电沉积方法”的专利。申请公布号为CN121451262A，申请号为CN202511899352.X，申请公布日期为2026年2月3日，申请日期为2025年12月16日，发明人张中泉、夏钰双、卫国英、夏航鹏、张海林、龚潮阳，专利代理机构北京盛询知识产权代理有限公司，专利代理师杨晶，分类号C25D15/00、C25D3/56。

专利摘要显示，本发明公开了一种基于双功能颗粒的高耐磨 Co‑W 复合镀层电解液及其配制方法和电沉积方法，涉及材料表面工程技术领域。该电解液以水为溶剂，溶质在电解液体系中的质量百分比为：硫酸钴3.59‑8.07%，钨酸钠6.4‑14.4%，络合剂7.69‑17.3%，氯化钠1.92‑4.32%，缓冲剂2.56‑5.76%，碳化硅2.56‑5.76%，碳粉0.07‑0.15%，表面活性剂0.01‑0.03%；并基于该电解液，采用电沉积法制备得到高耐磨 Co‑W 复合镀层。本发明借助 Co‑W 合金基体的支撑作用与碳化硅、碳粉双功能颗粒的协同增效，显著提升镀层综合性能，且整体工艺便捷高效，适用于各工业零件的表面防护需求。

天眼查数据显示，兴三星云科技股份有限公司成立日期2016年2月5日，法定代表人屠世顺，所属行业为计算机、通信和其他电子设备制造业，企业规模为大型，注册资本6024.0815万人民币，实缴资本6024.0815万人民币，注册地址为浙江省嘉兴市海宁市尖山新区安仁路12号。兴三星云科技股份有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目78次，财产线索方面有商标信息139条，专利信息488条，拥有行政许可22个。

兴三星云科技股份有限公司近期专利情况如下：

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