投资者提问:
目前为止,DUV光刻胶分为KrF248nm和ArF193nm两种,而EUV光刻胶是CAR光刻胶。公司有针对duv和euv光刻胶特性不同,而开发生产对应的半导体臭氧涂胶显影和光刻胶清洗设备吗?
董秘回答(国林科技SZ300786):
尊敬的投资者,您好。光刻胶属于有机物的一种,臭氧主要作用之一就是去除有机物,因此公司半导体专用臭氧系统设备可以应用于光刻胶去除工艺。感谢您的关注。
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