投资者提问：目前为止，DUV光刻胶分为KrF248nm和ArF193nm两...
创始人
2025-08-18 12:21:32

投资者提问：

目前为止，DUV光刻胶分为KrF248nm和ArF193nm两种，而EUV光刻胶是CAR光刻胶。公司有针对duv和euv光刻胶特性不同，而开发生产对应的半导体臭氧涂胶显影和光刻胶清洗设备吗？

董秘回答(国林科技SZ300786)：

尊敬的投资者，您好。光刻胶属于有机物的一种，臭氧主要作用之一就是去除有机物，因此公司半导体专用臭氧系统设备可以应用于光刻胶去除工艺。感谢您的关注。

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