芯源微申请均匀涂胶装置相关专利,解决方形掩膜版边缘涂胶不均问题
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2026-06-13 09:25:18

6月13日消息,国家知识产权局信息显示,沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请一项名为“一种均匀涂胶的装置和方法”的专利。申请公布号为CN122194572A,申请号为CN202610358426.7,申请公布日期为2026年6月12日,申请日期为2026年3月23日,发明人孙洪君、孙鹏、陈建,专利代理机构上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙),专利代理师黄海霞、芦宁宁,分类号G03F7/16、B08B3/02。

专利摘要显示,本发明涉及掩膜版制造领域,具体为一种均匀涂胶的装置和方法,所述装置包括承载部件,承载部件包括用于承载掩膜版的承载台及驱动承载台旋转与升降的驱动机构;承载台为圆形且中部设置有矩形的凹陷区,承载台设置有将承载台圆周分隔的四个开口,各开口与凹陷区的四角一一对应且与凹陷区内连通以形成引流通道。本申请采用设置方形凹陷区的圆形承载台,通过承载台将方形掩膜版的上表面补偿为圆形,避免喷涂时光刻胶在掩膜版的直角处产生边缘堆积;并且凹陷区的四角处设置的开口所形成引流通道能够改变掩膜版上部的风流方向,使得光刻胶在风流的带动下沿着对角线方向流动至方形掩膜版的边角,有效解决方形掩膜版边缘涂胶不均的问题。

芯源微成立于2002年12月17日,于2019年12月16日在上海证券交易所上市,注册地址和办公地址均位于辽宁省沈阳市。它是国内半导体专用设备领域的重要企业,核心产品半导体专用设备技术领先,具备一定技术壁垒。

芯源微主营业务为半导体专用设备的研发、生产和销售,所属申万行业为电子 - 半导体 - 半导体设备,所属概念板块包括光刻机、专精特新、光刻胶。

2025年,芯源微实现营业收入19.48亿元,在25家同行业公司中排名第12,与行业第一名北方华创的393.53亿元、第二名中微公司的123.85亿元差距较大,高于行业中位数14.26亿元,但低于行业平均数41.44亿元。其主营业务中,电子工艺装备收入18.79亿元,占比96.42%;产品备件收入4762.91万元,占比2.44%;其他(补充)收入2216.11万元,占比1.14%。净利润方面,2025年为7068.2万元,在同行业25家公司中排名第18,远低于第一名北方华创的54.09亿元和第二名中微公司的20.64亿元,低于行业平均数6.09亿元和中位数1.77亿元。

沈阳芯源微电子设备股份有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1涂胶杯及其多腔室光刻胶涂布设备发明专利公布CN202610617137.42026-05-07CN122183870A2026-06-12齐鹏、于威达、邢栗
2抽拉结构的门锁发明专利实质审查的生效、公布CN202610384015.52026-03-26CN122039876A2026-05-15郭亚内、王雨婷、唐学峰、莫瑞琦
3一种均匀涂胶的装置和方法发明专利公布CN202610358426.72026-03-23CN122194572A2026-06-12孙洪君、孙鹏、陈建
4一种用于晶圆烘烤的双温度检测及加热控制方法及系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610003990.72026-01-05CN121908837A2026-04-21黄诗淇、崔雨楠、白智源、尚柏屹
5一种恒温恒湿洁净的晶圆工艺环境系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511949923.62025-12-23CN121752002A2026-03-27要一帆、毛家伟、陈艳双
6压力罐机械互锁装置、压力罐及排泡管路系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511877871.62025-12-12CN121452341A2026-02-03田冲、张怀东、王丽鹤、刘健、孙元斌
7匀风过滤装置件及半导体涂胶显影设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511777389.52025-11-28CN121371817A2026-01-23毛家伟、王超群、邓晓军、陈雷
8匀风装置及半导体涂胶显影设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511777386.12025-11-28CN121432811A2026-01-30陈雷、王超群、毛家伟
9涂胶显影装置的控制方法、设备、介质和程序发明专利实质审查的生效、公布CN202511772460.02025-11-27CN121325516A2026-01-13王超群、张建、邓晓军
10涂胶显影的控制方法、设备、介质和程序发明专利实质审查的生效、公布CN202511764641.92025-11-27CN121386303A2026-01-23王超群、张建、邓晓军
11一种涂胶显影设备及传片方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511772449.42025-11-27CN121578594A2026-02-27王超群、陈艳双、张建
12一种双传片路径涂胶显影设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511764633.42025-11-27CN121578593A2026-02-27王超群、陈艳双、张建
13一种涂胶显影设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511754101.22025-11-26CN121411079A2026-01-27谢宏宇、孙元斌、韩禹、刘硕、程远、冯荻
14半导体设备的排风系统发明专利公布CN202511754103.12025-11-26CN121654820A2026-03-13陈雷、毛家伟、邓晓军
15药液储存装置及药液供给系统发明专利发明专利申请公布后的视为撤回、实质审查的生效、公布CN202511754105.02025-11-26CN121715298A2026-03-24唐学峰、郭亚内、王雨婷、孙元斌、刘江山
16一种涂胶显影设备的胶瓶更换用结构发明专利实质审查的生效、公布CN202511716218.12025-11-21CN121386302A2026-01-23王超群、毛家伟、陈艳双
17用于高台阶晶圆边缘顶角的涂胶保护方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511711425.82025-11-20CN121467283A2026-02-06姜倍鸿、杨延政、杨悦、王岳天、唐振宇
18一种晶圆加工腔室的供液管路及管路清洗方法发明专利公布CN202511711411.62025-11-20CN121669507A2026-03-17莫瑞琦、邓晓军、王雨婷、陈艳双、唐学峰
19一种改善显影工艺的装置及干式显影工艺方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511678519.X2025-11-17CN121432819A2026-01-30齐鹏、刘凯宁、王昱昊
20阳压自动调节系统、半导体设备及调节方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511672621.92025-11-14CN121523432A2026-02-13毛家伟、陈雷、邓晓军
21一种方形基板双面UV照射清洗装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511651642.22025-11-12CN121531954A2026-02-13黄诗淇、郭生华、龚明、张逢洋、孙洪君
22一种准分子紫外清洗用结构发明专利公布CN202511651646.02025-11-12CN121548249A2026-02-17黄诗淇、郭生华、龚明、张逢洋、陈建
23一种改善方形基板涂胶四角均匀性的配合设置结构发明专利实质审查的生效、公布CN202511615287.32025-11-06CN121178388A2025-12-23陈建、张逢洋、郭生华、龚明、黄诗淇
24一种方形基板涂胶后对边缘进行高精度光阻去除的装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511615288.82025-11-06CN121232551A2025-12-30郭生华、陈建、张逢洋、龚明、阚宇迪
25一种晶圆加工腔室发明专利实质审查的生效、公布CN202511596338.22025-11-04CN121443004A2026-01-30石晶、孙元斌、韩禹、程远、谢宏宇
26半导体设备供液系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511571716.12025-10-30CN121386301A2026-01-23郭亚内、王雨婷、莫瑞琦、高超、刘江山
27一种方形基板工艺的高温SPM自动混酸喷头发明专利实质审查的生效、公布CN202511545914.02025-10-28CN121149060A2025-12-16龚明、戴红峰、于洋、田聪、付笑寒
28一种掩膜版传送装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511518647.82025-10-23CN121084920A2025-12-09张逢洋、黄诗淇、龚明、阚宇迪、陈建
29液处理器件及液处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511485570.92025-10-17CN121335457A2026-01-13刘凯宁、于威达、张怀东、王丽鹤、田冲
30晶圆宏观缺陷检测设备外观专利授权CN202530600744.62025-10-14CN309916078S2026-04-14魏浩东、王震、高嘉伟、吴天昊、李海航
31清洗治具及杯体清洗方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511355541.02025-09-22CN121103794A2025-12-12刘凯宁、任洪麟、王丽鹤、张怀东
32基板涂胶显影设备外观专利授权CN202530520521.92025-09-02CN309928262S2026-04-17阚宇迪、尹晓飞、张逢洋、郭生华
33一种晶圆清洗装置发明专利公布CN202511237962.32025-09-01CN121035017A2025-11-28葛壮、郑云龙、张伟业、郝岩松
34基板去胶清洗设备外观专利授权CN202530497953.22025-08-22CN309850246S2026-03-17付笑寒、戴红峰、郭生华、龚明、杨泽
35一种针对HBM封装的晶圆产品清洗flux的工艺方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510829028.42025-06-20CN120679759A2025-09-23李孝令、李恒、张名超、朴勇男、李一南
36一种晶圆浸泡装置的升降结构发明专利公布CN202510780067.X2025-06-12CN120664468A2025-09-19张庭霄、刘忠贺、陈超、向浩源
37一种晶圆彩色图像一致性评价与缺陷检测方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510679146.12025-05-26CN120634971A2025-09-12魏浩东、张金宇、李海航、苗涛、王玉宝
38一种晶圆盒转接器前门机械锁定结构实用新型授权CN202520976124.72025-05-19CN224173893U2026-04-28阚宇迪、刘健、郭生华、龚明、杨佳雨
39一种晶圆边缘曝光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202510609657.62025-05-13CN120406054A2025-08-01王永洁、王翰阳、孙元斌、韩禹、徐庆阳
40一种用于晶圆曝光的照明装置及晶圆曝光系统实用新型授权CN202520930478.82025-05-13CN224190392U2026-05-01王永洁、王翰阳、孙元斌、韩禹、徐庆阳
41一种用于半导体清洗设备的支撑装置和半导体清洗设备实用新型授权CN202520880520.X2025-05-07CN224205577U2026-05-05赵旭、郝岩松、郭生洋
42一种浸泡晶圆运输防带液方法及实施该方法的防带液装置发明专利实质审查的生效、公布CN202510495560.72025-04-21CN120413471A2025-08-01张庭霄、郭生华、刘忠贺、陈超
43用于清洗助焊剂的低压清洗装置及清洗方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510489966.42025-04-18CN120280379A2025-07-08徐晓伟、温海涛、吴迪、刘涛、陈琛
44真空式助焊剂清洗装置及清洗方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510489963.02025-04-18CN120319691A2025-07-15徐晓伟、温海涛、吴迪、刘涛、陈琛
45一种用于镂空晶圆喷涂工艺的旋转盘体结构及承接单元发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510266639.22025-03-07CN120089627A2025-06-03童宇波、郭生华、龚明、李浩楠
46气密封结构及基板处理设备发明专利实质审查的生效、公布CN202510166636.12025-02-14CN119982900A2025-05-13郝岩松、苗涛、张伟业、赵旭、葛壮
47一种适用于并联管路的控制系统及方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202510138489.72025-02-08CN119565870B2025-05-27郭东、张怀东、程超、王雨婷
48一种流体通断隔膜阀实用新型授权CN202520196716.72025-02-08CN223881768U2026-02-06郭东
49一种液体压强测量设备实用新型授权CN202520196715.22025-02-08CN223910394U2026-02-13郭东
50一种流体处理装置发明专利授权CN202510138487.82025-02-08CN119572956B2026-03-13郭东、田冲

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