上海新阳申请锗硅刻蚀液相关专利,制备锗硅刻蚀液,可加快硅 - 锗刻蚀且选择比高
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2026-04-01 09:25:10

4月1日消息,国家知识产权局信息显示,上海新阳(维权)半导体材料股份有限公司申请一项名为“一种高选择比锗硅刻蚀液的制备”的专利。申请公布号为CN121759219A,申请号为CN202512015624.1,申请公布日期为2026年3月31日,申请日期为2025年12月30日,发明人王溯、演嘉辉、田亚辉、李慧,专利代理机构上海弼兴律师事务所,专利代理师陈卓,分类号C09K13/08、H10P50/64。

专利摘要显示,本发明公开了一种高选择比锗硅刻蚀液的制备。具体地,所述的制备方法包括以下步骤:将氟化物、氧化剂、抑制剂、缓冲组分和溶剂混合,得到所述的锗硅刻蚀液,其中,所述氟化物的质量百分比为0.1%‑5%;所述氧化剂的质量百分比为5%‑70%;所述抑制剂的质量百分比为0.1%‑2%;所述缓冲组分的质量百分比为1%‑5%;所述质量百分比为各组分质量占各组分总质量的百分比;各组分质量百分比之和为100%;所述的抑制剂为EO‑PO聚合物。本发明制备得到的锗硅刻蚀液可以选择性加快对硅‑锗合金的刻蚀速率,具有较高的选择比。

上海新阳成立于2004年5月12日,于2011年6月29日在深圳证券交易所上市,注册地址和办公地址均为上海市。它是国内领先的集成电路关键工艺材料供应商,产品涵盖电子化学品等,技术实力强。

上海新阳所属申万行业为电子-电子化学品Ⅱ-电子化学品Ⅲ,涉及股权激励、存储概念、深股通等概念板块。其主营业务有两类,一是集成电路制造及先进封装用关键工艺材料及配套设备的研产销与服务,提供整体化解决方案;二是环保型、功能性涂料的研产销及相关服务,提供专业涂装业务解决方案。

2025年,上海新阳营业收入19.37亿元,在行业6家公司中排名第4,低于第一名鼎龙股份的36.6亿元、第二名光华科技的29.64亿元,行业平均数为23.7亿元,中位数为23.57亿元。主营业务中,集成电路材料收入14.79亿元,占比76.35%;涂料品4.2亿元,占比21.68%;集成电路材料配套设备及配件3424.54万元,占比1.77%;其他400.22万元,占比0.21%。净利润方面,2025年为3.01亿元,在行业中排名第2,仅次于鼎龙股份的7.96亿元,行业平均数为2.81亿元,中位数为1.78亿元。

上海新阳半导体材料股份有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1一种高选择比锗硅刻蚀液的制备发明专利公布CN202512015624.12025-12-30CN121759219A2026-03-31王溯、演嘉辉、田亚辉、李慧
2一种硫代二乙酸的提纯方法发明专利公布CN202511026178.82025-07-24CN120887820A2025-11-04王溯、李志强、孙红旗、张怡
3一种引线框架磁性吸盘实用新型授权CN202422539208.22024-10-21CN223339461U2025-09-16韩烨、朱登峰、李蒙、李祝青
4盖板机构、晶圆清洗装置及晶圆封装设备发明专利公布CN202411138781.02024-08-19CN118768290A2024-10-15王振荣、刘红兵
5晶圆清洗媒介的循环装置、循环方法及晶圆封装设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411138823.02024-08-19CN118800693A2024-10-18王振荣、刘红兵
6晶圆清洗装置及晶圆封装设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411138804.82024-08-19CN118800692A2024-10-18王振荣、刘红兵
7行车搬运装置及晶圆封装设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411138851.22024-08-19CN118824920A2024-10-22王振荣、刘红兵
8温度控制装置及晶圆清洗设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411138758.12024-08-19CN118824903A2024-10-22王振荣、刘红兵
9晶圆提篮及晶圆封装设备发明专利公布CN202411138723.82024-08-19CN118841352A2024-10-25王振荣、刘红兵
10提篮分拣装置及晶圆封装设备发明专利公布CN202411138743.52024-08-19CN118841355A2024-10-25王振荣、刘红兵、张红林
11晶圆清洗装置及晶圆封装设备发明专利公布CN202411138834.92024-08-19CN118919452A2024-11-08王振荣、孙红旗、张红林
12晶圆清洗装置及晶圆封装设备实用新型授权CN202422009501.82024-08-19CN223193764U2025-08-05王振荣、刘红兵
13温度控制装置及晶圆清洗设备实用新型授权CN202422009428.42024-08-19CN223193763U2025-08-05王振荣、刘红兵
14晶圆清洗装置及晶圆封装设备实用新型授权CN202422009578.52024-08-19CN223193765U2025-08-05王振荣、孙红旗、张红林
15盖板机构、晶圆清洗装置及晶圆封装设备实用新型授权CN202422009477.82024-08-19CN223185076U2025-08-05王振荣、刘红兵
16行车搬运装置及晶圆封装设备实用新型授权CN202422009590.62024-08-19CN223347754U2025-09-16王振荣、刘红兵
17晶圆清洗媒介的循环装置及晶圆封装设备实用新型授权CN202422009553.52024-08-19CN223347737U2025-09-16王振荣、刘红兵
18提篮分拣装置及晶圆封装设备实用新型授权CN202422016675.72024-08-19CN223347755U2025-09-16王振荣、刘红兵、张红林
19晶圆提篮及晶圆封装设备实用新型授权CN202422016648.X2024-08-19CN223612386U2025-11-28王振荣、刘红兵
20一种ArF光刻用底部抗反射涂层及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410557299.42024-05-07CN120909068A2025-11-07王溯、徐森、耿志月、薛新斌
21一种形成光致抗蚀剂图案的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410557297.52024-05-07CN120909073A2025-11-07王溯、徐森、耿志月、薛新斌
22一种193nm光刻用底部抗反射涂层及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410557308.X2024-05-07CN120909071A2025-11-07王溯、徐森、耿志月、吕亚娟
23一种193nm光刻用底部抗反射涂层的组合物及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410557307.52024-05-07CN120909070A2025-11-07王溯、徐森、耿志月、吕亚娟
24一种ArF光刻用三元聚物及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410557306.02024-05-07CN120904387A2025-11-07王溯、徐森、耿志月、吕亚娟
25一种ArF浸没式光刻胶用聚丙烯酸酯聚合物、其制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410557304.12024-05-07CN120904385A2025-11-07王溯、徐森、耿志月、毛金丽
26一种193nm光刻用顶层涂层膜、其制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410557302.22024-05-07CN120909072A2025-11-07王溯、徐森、耿志月、毛金丽
27一种193nm光刻用底部抗反射组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202410557300.32024-05-07CN120909069A2025-11-07王溯、徐森、耿志月、薛新斌
28一种ArF光刻用双层树脂膜、其制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410557303.72024-05-07CN120928651A2025-11-11王溯、徐森、耿志月、毛金丽
29一种锗硅刻蚀液的应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311854475.22023-12-29CN120237002A2025-07-01王溯、马丽、邢诗惠、梁业成
30一种锗硅刻蚀液的制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311854466.32023-12-29CN120230557A2025-07-01王溯、马丽、邢诗惠、张磊磊、马伟
31一种锗硅刻蚀液发明专利实质审查的生效、公布CN202311854481.82023-12-29CN120230558A2025-07-01王溯、马丽、邢诗惠、肖富蓉
32锗硅刻蚀液的制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311847688.22023-12-29CN120230555A2025-07-01王溯、孙红旗、马丽、翟俊杰
33锗硅刻蚀液发明专利实质审查的生效、公布CN202311847687.82023-12-29CN120230554A2025-07-01王溯、孙红旗、马丽、刘金霞、张怡
34锗硅刻蚀液的应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311847692.92023-12-29CN120282467A2025-07-08王溯、孙红旗、马丽、于仙仙、王玮
35一种氧化铈抛光液的应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311831837.62023-12-28CN120230483A2025-07-01王溯、蒋闯、杨杰、沈学敏
36一种氧化铈抛光液的制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311831836.12023-12-28CN120230482A2025-07-01王溯、蒋闯、李泽宇
37一种氧化铈抛光液发明专利实质审查的生效、公布CN202311831834.22023-12-28CN120230481A2025-07-01王溯、蒋闯、史筱超、秦长春
38一种抛光液及其制备和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311831832.32023-12-28CN120230480A2025-07-01王溯、马丽、杨杰、沈学敏
39一种改性的氧化铈的应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311831831.92023-12-28CN120230513A2025-07-01王溯、马丽、史筱超、李泽宇
40一种改性的氧化铈及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311831826.82023-12-28CN120229751A2025-07-01王溯、马丽、史筱超、秦长春
41一种光刻胶顶涂层膜、其制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311839232.12023-12-28CN120230448A2025-07-01王溯、徐森、吕亚娟、邹琴峰
42一种双层树脂膜、其制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311839231.72023-12-28CN120230447A2025-07-01王溯、徐森、吕亚娟、邹琴峰
43一种羟胺类化合物清洗液的制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311839236.X2023-12-28CN120230609A2025-07-01王溯、蒋闯、冯强强、刘金霞、翟俊杰
44一种羟胺类化合物清洗液的应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311839235.52023-12-28CN120233650A2025-07-01王溯、蒋闯、冯强强、张怡、任发强、邢乃观
45一种羟胺类化合物清洗液发明专利实质审查的生效、公布CN202311839234.02023-12-28CN120233649A2025-07-01王溯、蒋闯、冯强强、陈晓颜、王玮、程鑫
46一种聚合物、其制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311839233.62023-12-28CN120230245A2025-07-01王溯、徐森、邹琴峰、吕亚娟
47一种抛光浆料组合物发明专利公布CN202311275713.42023-09-28CN119709019A2025-03-28王溯、马丽、史筱超、秦长春
48一种抛光浆料组合物的制备方法发明专利公布CN202311275712.X2023-09-28CN119709018A2025-03-28王溯、马丽、史筱超、李泽宇
49一种抛光浆料组合物的应用发明专利公布CN202311275711.52023-09-28CN119709017A2025-03-28王溯、马丽、杨杰、沈学敏
50一种碱性清洗液的制备方法发明专利公布CN202310795374.62023-06-30CN116814341A2023-09-29王溯、马丽、张怡、邢乃观、程鑫

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