3月7日消息，国家知识产权局信息显示，纳晶科技股份有限公司申请一项名为“发光装置、其制备方法以及包括发光装置的电子设备”的专利。申请公布号为CN121621038A，申请号为CN202380100967.4，申请公布日期为2026年3月6日，申请日期为2023年8月9日，发明人甄常刮、彭军军，分类号H10K59/122。

专利摘要显示，公开了发光装置、其制备方法以及包括发光装置的电子设备。发光装置包括：第一基板，其上具有多个底电极区，多个底电极区包括分别对应于第一、第二和第三子像素的第一底电极区、第二底电极区以及第三底电极区，第一底电极区和第二底电极区在第一方向上相邻地设置，第三底电极区与第一底电极区和第二底电极区基本平行地设置；在第一基板之上的像素界定层，形成有多个开口，多个开口分别露出相应子像素的相应底电极区；在第一基板之上的堤岸层，形成有彼此分离的多个开口，堤岸层的多个开口包括第一、第二和第三开口，在俯视图中，像素界定层形成的多个开口分别在堤岸层形成的相应开口中，堤岸层的厚度大于像素界定层的厚度；以及功能叠层，包括第一、第二和第三叠层部分，第一、第二和第三叠层部分分别设置在第一至第三开口中并位于相应的底电极区之上，各叠层部分至少包括发光层。

天眼查数据显示，纳晶科技股份有限公司成立日期2009年8月10日，法定代表人袁宏林，所属行业为仪器仪表制造业，企业规模为小型，注册资本14076.4172万人民币，实缴资本14076.4172万人民币，注册地址为浙江省杭州市滨江区长河街道秋溢路428号3幢3楼。纳晶科技股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目2次，财产线索方面有商标信息82条，专利信息416条，拥有行政许可24个。

纳晶科技股份有限公司近期专利情况如下：

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