佳能新光刻机工厂9月投产，主攻成熟制程及封装应用_资讯

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2025-08-01 18:11:39

（来源：SEMI）

据日媒报道，佳能（Canon）位于日本宇都宫市的新光刻机制造工厂将于9月正式投入量产，主攻成熟制程及后段封装应用设备，为全球芯片封装与成熟制程市场提供更多设备产能支持。

据悉，这座新工厂是佳能在2023年开始动工建设的，并可能使用自家开发的Nanoimprint（纳米压印）技术，总投资额超过500亿日元，涵盖厂房与先进制造设备。新厂面积达6.75万平方公尺，投产后将使光刻设备总产能提升50%。

佳能董事长兼CEO Fujio Mitarai表示：“新工厂生产的设备汇集了佳能所有的技术实力。”

有报道称，佳能重新关注成熟设备的原因在于生成式AI的热潮。随着电路微型化正接近极限，佳能发现此前用于前端的光刻设备可以用来形成中介层布线，于2011年率先推出用于后端工艺的光刻设备。时至今日，佳能仍几乎拥有所有主要半导体制造商用于后端工艺的光刻设备。